Internationales Künstlerstipendium der Pollock-Krasner Stiftung

Detaillierte Beschreibung

Die Pollock-Krasner Stiftung (The Pollock-Krasner Foundation) wurde 1985 in New York aus dem Nachlass von Lee Krasner gegründet – einer der führenden Malerinnen des Abstrakten Expressionismus und Witwe von Jackson Pollock. Sie zählt heute zu den renommiertesten privaten Kunststiftungen weltweit.

Bei diesem Programm handelt es sich nicht um einen klassischen Wettbewerb, sondern um zweckungebundene Stipendien und Fördergelder für professionelle bildende Künstlerinnen und Künstler. Das Hauptziel der Stiftung ist die finanzielle Unterstützung internationaler Künstler, die ein hohes künstlerisches Niveau, professionelles Engagement und finanziellen Bedarf nachweisen können, um ihnen ein ununterbrochenes künstlerisches Schaffen zu ermöglichen.

Die vergebenen Mittel sind vollkommen zweckungebunden (unrestricted). Die Empfänger können das Geld frei verwenden für:

• Atelier- und Studiomiete sowie Arbeitsplatzkosten,

• Anschaffung von Kunstmaterialien (Leinwände, Farben, Marmor, Gussbedarf etc.),

• Ausstellungsvorbereitungen, Rahmung und Transport-/Logistikkosten,

• Allgemeine Lebenshaltungs-, Wohn- und Gesundheitskosten.

Teilnahmebedingungen und Voraussetzungen

1. Zugelassene Disziplinen der bildenden Kunst

• Malerei: Öl, Acryl, Aquarell, Fresko, Mischtechnik etc.

• Bildhauerei / Plastik: Marmor, Holz, Metall, Keramik, Gussverfahren, Installationen etc.

• Arbeiten auf Papier: Kohle, Graphit, Tinte, künstlerische Druckgrafik (Radierung, Lithografie, Siebdruck) etc.

2. Anforderungen an die Bewerber

• Karrierestufe: Bewerber müssen professionelle, aktiv praktizierende Künstler mit nachweisbarer Ausstellungsbiografie sein.

• Keine Alters- oder Länderbegrenzung: Künstler aus allen Ländern der Welt sind bewerbungsberechtigt.

• Portfolio-Anforderungen: Es müssen exakt 10 hochauflösende Aufnahmen von Werken eingereicht werden, die in den letzten 10 Jahren entstanden sind.

3. Nicht zugelassene Disziplinen und Personen

• Studierende: Immatrikulierte Studierende in Bachelor-, Master- oder Doktoratsstudiengängen sind nicht bewerbungsberechtigt.

• Ausgeschlossene Disziplinen: Kommerzielle Fotografie, Video/Film, digitale Kunst, Performance-Kunst, Grafikdesign, Illustration, Kunsthandwerk (Schmuck, Dekorkeramik) sowie KI-generierte Kunst (KI/Generative Art) werden nicht berücksichtigt.

Förderhöhe und Unterstüzung

• Stipendienhöhe: Die Förderbeträge liegen je nach individuellem Bedarf und Projektumfang zwischen 5.000 und 50.000 USD. Die durchschnittlich vergebene Förderung beträgt etwa 35.000 USD.

• Teilnahmegebühr: Kostenlos (Es werden keine Bewerbungs- oder Bearbeitungsgebühren erhoben).

• Erneute Bewerbung: Ehemalige Stipendiaten können sich nach Ablauf einer bestimmten Frist erneut bewerben.

Zeitplan, Erforderliche Unterlagen und Auswahlverfahren

Zeitplan

• Bewerbungsfrist: Ganzjährig geöffnet (Rolling Deadline). Es gibt keinen festen Einsendeschluss; Bewerbungen werden an 365 Tagen im Jahr entgegengenommen.

Bewerbungsunterlagen (Müssen in englischer Sprache eingereicht werden)

1. Bewerbungsformular & Anschreiben: Angaben zur Person sowie finanzielle Übersicht.

2. Künstlerstatement (Artist Statement): Beschreibung der eigenen künstlerischen Praxis, Philosophie und Technik.

3. Ausführlicher Lebenslauf (CV): Vollständiges Ausstellungsverzeichnis, Preise und Publikationen.

4. Werkproben: Exakt 10 hochwertige JPEG-Bilder aktueller Arbeiten (aus den letzten 10 Jahren).

5. Werkverzeichnis / Bildliste: Titel des Werks, Entstehungsjahr, Maße und verwendete Materialien/Techniken.

6. Referenzen: Kontaktdaten von 3 professionellen Referenzpersonen (Galeristen, Kuratoren, Kunsthistoriker etc.).

Auswahlverfahren

Die Anträge werden fortlaufend von einer unabhängigen Jury aus Kunstexperten in New York geprüft. Das Bewertungsverfahren dauert in der Regel 9 bis 12 Monate ab dem Datum der Einreichung.

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